1) 특징 : 소면적 국소노광에 주로 적용
2) Resolution : Min 5㎛
Technical Specifications | ||
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Light Source | UV Lamp (Peak 365nm) | |
Effective Area | Max Φ100 mm | |
Typical Irradiance | Peak Intensity (mW/Cm²) | |
Working Distance ( @395nm ) |
120mm | ≥ 100 |
Uniformity | ± 4% |
1) 특징 : 대면적 노광기에 주로 적용
2) Resolution : 20 ~ 6 ㎛ (노광방식 : Proximity)
3) 사용처 : LCD, TSP, PDP, PCB노광기
1) 특징 : 소면적 고해상도 노광기에 주로적용되는 광학계. 대면적 에서는 Stepper 형식으로 적용.
2) Resolution : 20 ~ 3 ㎛ (노광방식 : Proximity) , ~ 0.5 ㎛ (노광방식 : Vacuum Hard Contact)
3) 사용처 : TSP,반도체
1) 특징 : Hard contact이 가능한 초대면적 고해상도 노광기에 사용되는 광학계. UVLED를 사용.
각 UVLED Chip 마다 투영 렌즈를 적용하여 C/A(광확산각) 최소 2o까지 가능.
2) 사용처 : PCB 노광, 전자 칠판
Technical Specifications | |
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Wavelength | 365/385/395/405nm |
C/A (광확산반각) | Min : 2 Degree |
Scan Uniformity | ≤ ±5% |
* 조도 및 Active area는 요구 사양에 따라 변경 가능
1) 특징 : Hard contact이 가능한 초대면적 고해상도 노광기에 사용되는 광학계. UVLED를 사용.
각 UVLED Chip 마다 투영 렌즈를 적용하여 C/A(광확산각) 최소 2º까지 가능.
2) 사용처 : PCB 노광, 기타 미세패턴 제작 노광공정용
Technical Specifications | |
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Wavelength | 365/385/395/405nm |
C/A (광확산반각) | Min : 2 Degree |
Scan Uniformity | ≤ ±5% |
Beam Area | 60x640 mm |
제작가능 길이 | User 요구에 따름 |
* 조도 및 Active area는 요구 사양에 따라 변경 가능