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제품소개
제품소개 노광 광학시스템 Fine Pattern

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Fine Pattern

01
Lens Projection illumination

1) 특징 : 소면적 국소노광에 주로 적용

2) Resolution : Min 5㎛

Technical Specifications
Light Source UV Lamp (Peak 365nm)
Effective Area Max Φ100 mm
Typical Irradiance Peak Intensity (mW/Cm²)
Working
Distance
( @395nm )
120mm ≥ 100
Uniformity ± 4%
02
Proximity Mirror Projection

1) 특징 : 대면적 노광기에 주로 적용

2) Resolution : 20 ~ 6 ㎛ (노광방식 : Proximity)

3) 사용처 : LCD, TSP, PDP, PCB노광기

03
Proximity Lens Projection

1) 특징 : 소면적 고해상도 노광기에 주로적용되는 광학계. 대면적 에서는 Stepper 형식으로 적용.

2) Resolution : 20 ~ 3 ㎛ (노광방식 : Proximity) , ~ 0.5 ㎛ (노광방식 : Vacuum Hard Contact)

3) 사용처 : TSP,반도체

04
UV LED Scanner (수냉)

1) 특징 : Hard contact이 가능한 초대면적 고해상도 노광기에 사용되는 광학계. UVLED를 사용.
각 UVLED Chip 마다 투영 렌즈를 적용하여 C/A(광확산각) 최소 2o까지 가능.

2) 사용처 : PCB 노광, 전자 칠판

Technical Specifications
Wavelength 365/385/395/405nm
C/A (광확산반각) Min : 2 Degree
Scan Uniformity ≤ ±5%

* 조도 및 Active area는 요구 사양에 따라 변경 가능

05
UV LED Scanner (공냉)

1) 특징 : Hard contact이 가능한 초대면적 고해상도 노광기에 사용되는 광학계. UVLED를 사용.
각 UVLED Chip 마다 투영 렌즈를 적용하여 C/A(광확산각) 최소 2º까지 가능.

2) 사용처 : PCB 노광, 기타 미세패턴 제작 노광공정용

Technical Specifications
Wavelength 365/385/395/405nm
C/A (광확산반각) Min : 2 Degree
Scan Uniformity ≤ ±5%
Beam Area 60x640 mm
제작가능 길이 User 요구에 따름

* 조도 및 Active area는 요구 사양에 따라 변경 가능

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